שיטת אידוי קרן האלקטרונים היא מעין ציפוי אידוי בוואקום, העושה שימוש בקרני אלקטרונים כדי לחמם ישירות את חומר האידוי בתנאי ואקום, לאדות את חומר האידוי ולהעבירו אל המצע, ולהתעבות על המצע ליצירת סרט דק. במכשיר לחימום קרן האלקטרונים, החומר המחומם ממוקם בכור היתוך מקורר במים, מה שיכול למנוע את התגובה בין חומר האידוי לדופן כור ההיתוך ולהשפיע על איכות הסרט. ניתן למקם מספר כור היתוך במכשיר כדי להשיג אידוי ושקיעת חומרים שונים בו-זמנית או נפרדת. בעזרת אידוי קרן אלקטרונים, ניתן לאדות כל חומר.
אידוי קרן האלקטרונים יכול לאדות חומרים בנקודת התכה גבוהה. בהשוואה לאידוי חימום התנגדות כללית, יש לו יעילות תרמית גבוהה יותר, צפיפות זרם אלומה גבוהה יותר ומהירות אידוי מהירה יותר. סרט וסרט מחומרים אופטיים שונים כגון זכוכית מוליכה.
המאפיין של אידוי קרן אלקטרונים הוא שהוא לא או רק לעתים רחוקות מכסה את שני הצדדים של מבנה התלת מימדי של המטרה, ובדרך כלל רק משקעים על פני המטרה. זה ההבדל בין אידוי קרן אלקטרונים לקרטוט.
אידוי קרן אלקטרונים משמש בדרך כלל בתחום המחקר והתעשייה של מוליכים למחצה. אנרגיית האלקטרונים המואצת משמשת כדי לפגוע במטרה החומרית, מה שגורם למטרה החומרית להתאדות ולעלות. בסופו של דבר הופקד על המטרה.
זמן פרסום: דצמבר-02-2022